高精度光刻机：精准制造微米级芯片 光刻机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备，它能够将芯片设计图案投射到硅片上，制造出微米级别的芯片。高精度光刻机是一种能够实现微米级别精度的光刻机，它的出现使得芯片制造的精度更加提高，为半导体产业的发展提供了有力支持。 1. 光刻机的基本原理 光刻机的基本原理是利用紫外线光源照射在光刻胶上，通过光刻胶的光化学反应将芯片图案转移到硅片上。光刻机的核心部件是光刻胶，它是一种特殊的聚合物，能够在紫外线的照射下发生光化学反应，并且在反应后保持图案的形状。光刻机的工作过